[過去ﾛｸﾞ] (強いAI)技術的特異点/シンギュラリティ156 (1002ﾚｽ)
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634: 2019/04/13(土)02:27 ID:pUbE22QL(1) AAS
■ムーアの法則の終焉、遠のく - imecら、
EUVへの逐次浸透合成法の適用に成功
EUVリソグラフィ後にSISを適用することにより、
フォトレジストパターンのラフネスやウェハ表面に
確率的に存在するナノ欠陥を削減することができ、
将来の超微細パターン形成にEUVが適用できる
めどが立ったとしている
SISは、自己組織化リソグラフィ
(Directed Self-Assembly:DSA)にて
すでに利用されているが、imecは今回、EUV装置を用いた
省17
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