[過去ﾛｸﾞ] 政府、ラピダスに2千億円出資へ 25年度、民間投融資の呼び水に [どどん★] (647ﾚｽ)
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477: 名無しどんぶらこ 11/22(金)13:19 ID:JZUt0DT60(1) AAS
EUV露光の消費電力を10分の1に、沖縄科学技術大がミラー減らす新技術 わずか4枚のミラーで構成
従来はEUV光源から出た波長の短い光を10枚の鏡に反射させながら、フォトマスクと呼ばれる原版の回路パターンを、
プロジェクターを使って1辺10ミリメートルのシリコンウエハーに転写している。
オランダの半導体製造装置大手ASMLホールディングだけがこの技術を持っており、各半導体メーカーに独占販売する状況が続く。
ただ、鏡は1回反射するごとにEUVのエネルギーが40パーセント減衰するため、10枚の鏡を通過して最終的にシリコンウエハーに届くのは1パーセントにとどまる。
炭酸ガスのレーザーでプラズマを発生させて、必要なEUV光を作るためには、1000キロワットという大量の電力消費が必要で、冷却水の量も膨大となる。
鏡は希少金属のモリブデンとシリコンからできているため、設備投資もかかる。精密機械や半導体を作る大手グローバル企業からは「工場での電気代が高すぎる」など不満の声が上がっていた。
新竹教授は「国産化できると思う。日本の半導体メーカーが再び黄金期を迎えられればいい」と展望を語る。
今後は研究と並行して産学連携で光学機器メーカーや半導体メーカーに実用化の協力を仰ぎ、
これまで日本が得意としていた半導体製造技術の巻き返しを図りたいという。
省4
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